仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
高真空阴极弧源放电+磁控溅射联合镀膜。
主要技术指标：
★高真空阴极弧源放电+磁控溅射联合镀膜系统，系统用于直径10mm×300mm管材外表面或30×30×5mm板材表面以及刀具和模具上沉积高性能冶金和耐磨擦镀膜。极限真空：溅射室(经烘烤)真空度极限≤8.0×10-5Pa；系统漏率：停泵关机 12小时后，溅射室真空度可达≤10Pa。★样品柱有效高度300mm，样品架加脉冲偏压（-1KV），样品转架可公转和自转（公转和自转由2个电机控制），以及公转到位后摆动，并且样品转架预留有扩展功能的接口（如小柱状、管状工件挂架及其拨齿转位功能）。
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
面议