仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
基本大部分透明、半透明（如：光刻胶、氧化硅、氮化硅等）的薄膜都可以测量，确保其可广泛用于各类薄膜厚度的量测，不仅单层薄膜可以测试，多层不同材料的薄膜也可以测试，采用无损非接触式光学测量，在不到一秒钟的时间内，即可得到膜层厚度，非常方便快速。高精度自动移动平台，可以任意设定点位多点自动测量。
主要技术指标：
测量氧化硅厚度测量范围：20nm-40um；波长范围：380-1050nm；光斑尺寸：17umm和7um；测量n和k值最小厚度要求：100nm；准确度（较大者）：2nm或0.2%；精度：0.02nm (for 1000nm of SiO2 on Si.)；厚度标准片配置: SiO2 on Si标准片；反射率参考片配置：配置4/6/8英寸标准硅参考片
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
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