仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
采用热扫描探针光刻技术，通过静电力精确控制对热敏光刻胶的刻写，并通过悬臂一侧的热传感器实时的形貌探测，实现各种高精度图案化工艺。可以用于半导体、微纳光学等领域微纳器件的设计与制备。用途是快速制备高品质的三维纳米结构，以及开展纳米尺度材料化学反应。
主要技术指标：
1.加工精度30nm；2.分辨率：横向50nm,纵向10nm；3.针尖可加热至1100℃；4.扫描速度0.5mm/s；5.温度控制精度1℃。
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
询价