仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
本仪器之主源用于溅射，辅源用于辅助沉积，主源溅射出的靶材料原子或离子约以5—25eV能量沉积于基底表面，适用溅射金属、合金、陶瓷等材料，辅源预清洗基底表面以改善吸引力，增加成核点，若在薄膜生长过程中施加低能离子轰击，可改善薄膜的结构及应力状态，加氧或氮可进行反应溅射沉积。
主要技术指标：
1．极限真空度：6×10-4Pa
2．主源：1000eV，100—120mA
辅源：800eV，100mA
3．溅射靶：F100 mm
4．基片台：F40 mm，旋转，扫描，水冷
服务内容：
样品制备
服务典型成果：
无
用户须知：
苏州大学大型精密贵重仪器设备管理办法
苏州大学大型仪器设备收费管理暂行办法
苏州大学大型仪器设备共享管理办法（试行）
收费标准：
面议