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功能/应用范围：
原子层沉积是将气相前驱体脉冲交替地通入反应室，并在沉积基体上发生表面化学吸附反应，从而逐层形成薄膜。前驱体在表面的化学吸附具有自限制性，因而可通过反应的循环次数来控制薄膜的厚度。原子层刻蚀是首先对表面层进行改性，第二步对其进行去除。利用改性步骤的自限制性，达到逐层去除的目标。
主要技术指标：
6路独立前驱体源管线入口，其中两路前驱体可加热，一路可冷却（-10℃-RT）
4路等离子体源(N2, H2, O2, Ar)载气可切换N2，Ar
反应腔最高沉积温度500℃
原位监测手段：RGA，OES
载台独立射频偏压
可处理的样品尺寸：≤2英寸
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
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