仪器详情
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功能/应用范围：
目前可以沉积的材料包括：氧化物，氮化物，氟化物，金属，碳化物，复合结构，硫化物，纳米薄层等。（Al2O3，TiO2，SiO2，AlN，TiN，Si3N4，etc）
主要技术指标：
配置6路独立前驱体源管线入口和2路等离子体源，反应器最高沉积温度500ºC。
对于2英寸基片（ɸ 50 mm），沉积10nm厚度Al2O3薄膜，通过九点法测量，薄膜厚度的不均匀性：≤1％；
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
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