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安徽师范大学
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磁控溅射与PECVD一体化系统
型号:定制
制造厂商:沈阳慧宇真空技术有限公司
购置日期:
生产国别:中国
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仪器详情
用户评价
功能/应用范围:
主要研究方向:等离激元光子学
主要技术指标:
1.极限真空度: 1×10-5 Pa; 2.真空室尺寸Φ内400×350,不锈钢立式结构,衬底自转,加热温度800℃,程序温控,三靶向上共溅射。两靶可直流溅射,一个靶可射频溅射; 3.直流溅射电源功率500W;射频溅射电源(自动调节匹配)功率500W。
服务内容:
服务典型成果:
用户须知:
收费标准:
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