仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
超高真空双室磁控溅射设备
主要技术指标：
该设备系由涡轮分子泵机组抽气带空气锁的双室（主溅射室+进样室+磁力进样装置）超高真空系统。主溅射室尺寸为Φ500×H400㎜，梨形截面筒式真空室、大法兰盖电动升降，大法兰盖与真空腔体的密封采用氟橡胶圈密。选用基片在下，磁控靶在上的结构，向下溅射成膜方式。安装三支Φ3″永磁磁控靶（其中一支进口），RF&DC兼容;Kaufman源5cm离子枪，在PLC可编程控制下可分别对三个工位的样品依次进行镀前清洗。基片转盘程序控制，不同的基片可选择不同的靶位。进样室尺寸Φ250×L320㎜，卧式前开门结构;磁力样
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
面议