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紫外干涉膜厚仪
型号:F50-UVX
制造厂商:Filmetrics
购置日期:
生产国别:美国
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仪器详情
用户评价
功能/应用范围:
在测量样品表面垂直照射紫外可见光,光的一部分在薄膜表面反射,另一部分透过薄膜后在薄膜与下层材料之间的界面反射。这时薄膜表面的反射光与薄膜底部的反射光产生干涉现象,使得反射光的强度发生振荡,光强振荡与入射光波长及薄膜的厚度相关。
主要技术指标:
1. 薄膜厚度测试范围涵盖5 nm—250 μm; 2. 膜厚测量准确度:≤±2%或1 nm (500 nm-800 nm厚度范围SiO2/Si标样); 3. 膜厚测量精度(连续测量100次):≤02 nm (500 nm-800 nm厚度范围SiO2/Si标样); 4. 膜厚测量稳定性(100次测量):≤05 nm (500 nm-800 nm厚度范围SiO2/Si标样); 5. 测试速度:≤1 sec/点(5点及以上)
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