仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备
主要技术指标：
1、双室磁控溅射系统，极限压力：主溅射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三个直流电源，两个射频电源，靶材直径60mm；3、6个样品工位，尺寸直径30mm，基片加热最高600度，退火炉最高温度800度
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
校外开机费500元，1000元/小时；校内开机费160元，350元/小时；院内开机费50元，100元/小时