仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
主要用于蒸发Ti、Al、Ni、Au、AuGe、Cr、Pt等金属薄膜，蒸发速率0.1A/s-20A/s可调，最大蒸发厚度可至2000nm。一次可蒸镀两寸片180片，四寸片和六寸片8片，向下尺寸兼容，薄膜不均匀性≤±5%。最少1.5小时起预约
主要技术指标：
电子束蒸发镀膜原理：在高真空下，电子枪灯丝加热后发射热电子，被加速阳极加速，获得很大的动能轰击到的蒸发材料上，把动能转化成热使蒸发材料加热气化，而实现蒸发镀膜。本系统真空腔较大，样品架也较大，适合大尺寸样品加工或数量较多的样品加工。
技术指标：
可在高真空下蒸发不同厚度的各种金属薄膜，材料包括Ti、Al、Ni、Au、Au88Ge12、Cr等，广泛应用于半导体、生物、化学、材料等领域。
蒸镀薄膜：Ti、Al、Ni、Au、Au88Ge12、Cr
抽气速度：30min由ATM到5.0×10-
服务内容：
主要用于蒸发Ti、Al、Ni、Au、AuGe、Cr、Pt等金属薄膜，蒸发速率0.1A/s-20A/s可调，最大蒸发厚度可至2000nm。一次可蒸镀两寸片180片，四寸片和六寸片8片，向下尺寸兼容，薄膜不均匀性≤±5%。最少1.5小时起预约。
服务典型成果：
Ti、Al、Ni、Au、AuGe、Cr、Pt等金属薄膜
用户须知：
按照设备预约规定使用
收费标准：
大夹具(180片2寸)AU及合金：600元/小时+300元/工艺+250元/层+240元/nm.