仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
主要用于半导体生产中的光刻工艺
主要技术指标：
SUSSMA6光刻机是设计用于实验室研发，小批量生产的高分辨率光刻系统。该光刻机供了最好的基片适应性，可夹持不同厚度不同形状的晶片。同时标准尺寸基片最大直径为150mm。处理最大厚度可达6mm的晶片。SUSS MA6提供了各种接触式曝光程序。X-和Y-向位移精度在0.1μm以下。使用400nm的宽带光源曝光波长在真空模式下分辨率为0.7μm。同时可以选用不同的对准装置，分离视场顶部对准显微镜或视频显微镜，BSA底面对准显微镜对准方式。是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备。
基本指标：
服务内容：
为客户提供光刻曝光服务
服务典型成果：
各种半导体器件光刻曝光加工
用户须知：
需要培训通过后可单独使用
收费标准：
800元/小时，包括光刻胶费用。30分钟为基本时间单元