仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
TEM样品制备及集成电路截面分析
主要技术指标：
功能/应用范围： TEM样品制备及集成电路截面分析
主要附件： 无
主要技术指标： Extreme high resolution (XHR) with sub-nanometer resolution from 500 V to 30 kV
技术特色： Helios NanoLab 是一款极其灵活的平台，既能以极高的效率制备 TEM 样本，又能开展高性能低电压成像以分析高级逻辑和存储器件。Helios Nanolab 具有大型和小型样本室两个配置，效率极高，并且是面向实验室和近生产环境的低每样本成
服务内容：
服务典型成果：
无
用户须知：
对外服务时间:周一-周日。参数：Extreme high resolution (XHR) with sub-nanometer resolution from 500 V to 30 kV。附件：无
收费标准：
面议