仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
可制备各种金属、非金属薄膜的复合多层薄膜，特别是磁性薄膜；可进行多元共溅射，并可同时导入二种反应气体进行反应溅射；可对基片加热溅射和反溅射清洗。
主要技术指标：
1． 极限真空： 7×10-6Pa
2． 磁控靶： Φ英寸×5只（永磁）
3． 靶—基距： 20—100mm
4． 基片架： 直接水冷，可转动
5． 样品： 2.6×76mm或F60mm×8（最大）
6． 气路： 0～10sccm，0～10sccm，0～100sccm
质量流量计、共4路进气
7．电源： RF 13.65MHZ 600W×2（进口）
DC 1000W×1 （进口）
RF 500W×2（国产）
8．机械手： 2只
服务内容：
制备各种金属、非金属薄膜的复合多层薄膜，特别是磁性薄膜；可进行多元共溅射，并可同时导入二种反应气体进行反应溅射；可对基片加热溅射和反溅射清洗
服务典型成果：
无
用户须知：
苏州大学大型精密贵重仪器设备管理办法
苏州大学大型仪器设备收费管理暂行办法
苏州大学大型仪器设备共享管理办法（试行）
收费标准：
面议