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功能/应用范围：
主要技术指标：
功能/应用范围： 可用于有高真空的金属类、石英类靶材镀膜。
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主要技术指标： 助沉积离子源：采用考夫曼进口离子源（KDC40)，引出栅直径40mm，离子源加速电压100～1200V，电流最大可达120mA. （3）电源：专用直流电源KSC1212，KSC1202分别供两套离子源用。 5、气路系统：采用三台MFC（气体直流流量计）来控制进气，两台为氩气供离子源用，气体最大流量为30SCCM。一台为氮气供工作用，气体最大流量为50SCCM，另外还有一套氮气泄漏气路。各气路分别配有截止阀，气路均
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