仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
该系统是一种双离子源，外加靶台的镀膜沉积系统。要求保证镀膜均匀区：100mm，保证镀膜的致密性及表面光洁度达到要求。
主要技术指标：
1．主离子源
离子源发射束径： ≥Φ120mm；
离子能量可调范围： 0-1000eV；
2．辅助离子源
离子束轰击范围直径： ＞Φ100mm；
离子能量可调范围： 0-1000eV；
3．四靶台（水冷、外部随机换靶）或三靶台
靶台一次可装不同材料靶数： 4靶或3靶；
靶温： ＜100℃；
4．旋转扫描式衬底台（水冷）,具备台面自转
台面
服务内容：
镀膜沉积
服务典型成果：
无
用户须知：
苏州大学大型精密贵重仪器设备管理办法
苏州大学大型仪器设备收费管理暂行办法
苏州大学大型仪器设备共享管理办法（试行）
收费标准：
面议