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中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
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金属有机物化学气相沉积(MOCVD)设备
型号:AIXTRON Close Coupled Showerhead 6x2 inch
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功能/应用范围:
金属有机物化学气相沉积(MOCVD),也称为金属有机物气相外延(MOVPE),是一种利用金属有机化合物和非金属氢化物通过裂解合成等化学反应外延生长化合物半导体的气相外延生长技术。通过调节反应室内气体的流量、温度、压力等参数,可以实现对外延生长的精确控制。常用于生长各种Ⅲ-Ⅴ,Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。
主要技术指标:
工作压力:0-1300mbar 工作温度:0-1300℃ 生长速率:0.01-1 nm/s
服务内容:
服务典型成果:
用户须知:
收费标准:
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