仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
喷淋头式反应腔室，源气效率更高，均匀性好，支持6X2英寸GaAs或者InP基材料生长。
主要技术指标：
6x2英寸 3x3英寸基座；喷淋头式反应腔室；材料高质量、均匀性高；源气效率高、维护成本低。
服务内容：
服务典型成果：
用户须知：
收费标准：
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