仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
1、适用于GaAs系、InP系及其他相关材料的刻蚀，要求工艺稳定，刻蚀一致性好，均匀性好。2、系统须包括工艺室、半自动真空载片室、计算机控制系统等，半自动载片负责传送晶片进出ICP工艺室及载片室，工艺室的内壁材料应与选择的反应其他无任何反应；
主要技术指标：
1、适用于GaAs系、InP系及其他相关材料的刻蚀，要求工艺稳定，刻蚀一致性好，均匀性好。2、系统须包括工艺室、半自动真空载片室、计算机控制系统等，半自动载片负责传送晶片进出ICP工艺室及载片室，工艺室的内壁材料应与选择的反应其他无任何反应；3、载片台具有温度控制系统，温度连续可调，制冷控制温度可以低于-30℃，加热控制温度可达80℃，单次载盘可承载多片3英寸晶片；
服务内容：
先进制造
服务典型成果：
先进制造
用户须知：
先进制造
收费标准：
面议