仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
用于各类薄膜和器件的研究。采用四靶共聚焦模式沉积薄膜，具有薄膜在线刻蚀功能。
主要技术指标：
共聚焦溅射模式进行金属薄膜、合金薄膜、金属氧化物、氮化物、碳化物薄膜、多层薄膜等的沉积；材料表面等离子体刻蚀、清洗、处理等。可用于存储器、传感器、显示器、薄膜太阳能电池等的研究和生产，薄膜材料沉积、刻蚀、等离子体处理等；溅射靶材包含Au、Ag、Cu、Ti、Cr、Al、Zn、Fe、Ni、W、Ta、Pt、Si、Ge、Te 等。
服务内容：
无
服务典型成果：
无
用户须知：
无
收费标准：
面议