仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
全面开发出各种工艺，用于对使用氟基化学的材料进行各向同性和各向异性蚀刻，其中包括：碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、光阻剂、聚酰亚胺、石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨钛以及钨
主要技术指标：
1. 高选择性各向异性腐蚀，符合苛刻的制程要求；
2. 全自动"一键"操作完全代替手动操作；
3. 易于使用的电脑触屏的参数控制和配方输入和存储；
4. 晶圆尺寸达8"英寸直径，圆滑、紧凑的设计使用最少的洁净室空间；
5. RIE-10NR设计用于蚀刻氮化物、氧化物和任意需要氟基化学的薄膜或基片。其安装在节省空间的平台上的模块化设计，使其成为全世界许多用户的首选系统；
服务内容：
服务典型成果：
无
用户须知：
对外服务时间:8:30-17:30。参数：1. 高选择性各向异性腐蚀，符合苛刻的制程要求；
2. 全自动"一键"操作完全代替手动操作；
3. 易于使用的电脑触屏的参数控制和配方输入和存储；
4. 晶圆尺寸达8"英寸直径，圆滑、紧凑的设计使用最少的洁净室空间；
5. RIE-10NR设计用于蚀刻氮化物、氧化物和任意需要氟基化学的薄膜或基片。其安装在节省空间的平台上的模块化设计，使其成为全世界许多用户的首选系统； 。附件：ICP(电感耦合等离子)、涡沦泵、带背侧氦冷却系统和端点检测系统的静电吸盘等；
收费标准：
面议