仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
,制备各种单层或多层金属膜、介质膜、半导体膜。该设备为在材料（金属、非金属）表面制备具有多种特殊性能的膜层的专用设备，是物理气象沉积｛PVD｝这一先进材料技术的必需硬件，可用于进行材料表面改性、表面金属-无机复合、表面镀膜等类型的研究。,
主要技术指标：
,限真空度： 主溅射室6.6×10-5Pa，进样室5×10-4Pa；工作真空度可调靶：磁控靶/射频靶，水冷，射频靶2×φ50，直流靶1×φ50 衬底： 多片样品，可水冷，可加热结构： 主溅射室φ350×280，夹壁水冷。,
服务内容：
该设备为在材料（金属、非金属）表面制备具有多种特殊性能的膜层的专用设备，是物理气象沉积｛PVD｝这一先进材料技术的必需硬件，可用于进行材料表面改性、表面金属-无机复合、表面镀膜等类型的研究。
服务典型成果：
无
用户须知：
预约使用
收费标准：
面议