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中国科学技术大学
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磁控溅射台
型号:SP-2
制造厂商:中国科学院微电子所(北京)
购置日期:
生产国别:中国
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仪器详情
用户评价
功能/应用范围:
设备可用于各种金属和非金属薄膜(如Au、Pt、W、Mo、Nb、Ti、Al、Si、SiO2等)的沉积,所制薄膜可用于微机电系统器件的 电极层、功能层等。
主要技术指标:
一次可加工4片4英寸的片子或16片2英寸的片子,均匀性误差不大于±5%(4英寸内)。
服务内容:
服务典型成果:
用户须知:
收费标准:
600元/次
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