仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
设备主要用于单层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜等新型薄膜材料的制备。可应用于大专院校的薄膜材料的近代物理的理论教学及实验教学演示。
主要技术指标：
极限真空：优于 6.6×10-5 Pa ； #8226; 真空室尺寸： 450×300（mm）为圆筒形立式全不锈钢结构 #8226; 样品加热温度：可水冷、可加热到 600 ℃ #8226; 基片尺寸、数量： 最大 30mm 、一块 #8226; 靶的 尺寸、数量：靶材直径 60mm、 二个永磁靶、一个电磁靶 #8226; 基片可加负偏压、可自转 #8226; MFC质量流量计控制器进气。
服务内容：
无
服务典型成果：
用户须知：
无
收费标准：
面议