仪器详情
用户评价
功能/应用范围：
纳米压印AMONIL刻蚀，Si材料刻蚀
主要技术指标：
N2 O2 Ar CF4 SF6 He 6种气体，气体流量
功率0～300w
真空度
刻蚀时间
RF powder
ECR
服务内容：
服务典型成果：
无
用户须知：
对外服务时间:周1～5。参数：N2 O2 Ar CF4 SF6 He 6种气体，气体流量
功率0～300w
真空度
刻蚀时间
RF powder
ECR。附件：vacuum system
substrate holder
julabo cryostat
gas dosage system
收费标准：
面议